第1364章 膜厚控制

    八月三號,鹏城,实验楼三层。
    钱院士带了十二个人,关在机房里,三天没出来。
    手册拆开之后,问题比想像的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积,两套系统配合,精度要求到了亚纳米级別。
    钱院士的助手小周拿著列印出来的参数表,站在设备前,对了半天。
    “钱老,咱们这台溅射设备,靶材转速最高到三千转,手册上要求四千五。”
    钱院士走过来,看了一眼参数。
    “膜厚控制呢?”
    小周翻到第三页:“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八,差四倍。”
    钱院士把参数表放下,摘了老花镜。
    设备不够——这是硬伤。
    他打给张红旗。
    “红旗,设备精度不够。手册里的工艺,咱们现有的机器跑不了。”
    张红旗在煤市街:“差多少?”
    “核心指標差三到四倍。要么换设备,要么改设备。换设备国內买不到,国外买走审批,最快半年。”
    张红旗说:“改。”
    “改设备风险很大,改坏了连现在的精度都保不住。”
    张红旗说:“钱老,您先稳住。材料那边我来解决。设备改造的方案您先出,我这边配合。”
    掛了。
    八月四號,东京,住友化学株式会社。
    住友的半导体材料部门收到了一份內部通报:asml和一家开曼信託公司达成了专利交叉授权协议,镀膜技术参数外流。
    住友的材料部部长田中看完通报,叫来下属。
    “查一下,之前跟我们採购高纯度鉬靶材的那个中国团队,是不是鹏城那边的?”
    下属查了记录:“是。去年十一月下过一批订单,后来因为出口管制审批卡住了,一直没发货。”
    田中点头:“现在asml把技术给出去了,说明这个团队有背景。重新联繫他们。”
    下属问:“价格呢?”
    田中说:“涨百分之五十。”
    下属没多问,发了邮件。
    八月五號,鹏城,钱院士收到住友的邮件。
    他看了报价,眉头皱了一下,打给张红旗。
    “材料供应商主动联繫过来了——日本住友。高纯度鉬靶材,去年卡住的那批货,现在愿意卖了,但是涨价百分之五十。”
    张红旗问:“原价多少?”
    “一批三百二十万美元,现在要四百八十万。”
    张红旗没犹豫:“买。二十四小时內发货,到不了货换供应商。”
    钱院士说:“国內没有替代供应商,这个纯度只有住友和德国贺利氏能做。”
    张红旗说:“那就让他们发。钱的事我来办。”
    掛了电话,张红旗打给刘浩。
    刘浩在京城,刚从北影厂出来。
    “浩子,走个帐。四百八十万美元,从香港帐户出,打到住友化学的指定帐户,今天之內到。”
    刘浩问:“什么钱?”
    “材料费,不多问。”
    刘浩说:“行,我让陈默那边办。”
    当天下午,陈默在香港操作。钱从瑞士帐户转到香港,再从香港打到东京。四个小时,到帐。
    住友收到款,田中签了发货单。鉬靶材从横滨港装船,走海运,三天到鹏城。
    八月八號,材料到了。
    钱院士没急著装料。他带著团队蹲在溅射设备前,干了一件事。
    改机器。
    小周把设备的控制电路板拆出来。钱院士拿著手册上的参数,在白板上画了一个补偿模型。
    “设备精度不够,用软体补。”
    他让三个博士生把实验楼地下室的模擬集群调出来——四十台伺服器,全部接上——跑了一个补偿算法。
    思路很简单:设备硬体做不到零点零二纳米的精度,就在每一层镀膜的过程中用传感器实时採集数据,反馈到算法里,算法即时修正下一步的沉积参数。
    等於让一个手抖的人,靠一套自动修正系统,画出一条直线。
    八月九號,凌晨两点,补偿参数跑出来了。
    小周把参数灌进设备控制系统,重启。
    溅射设备嗡嗡响了起来。
    钱院士站在无尘室的观察窗外,看著里面。
    第一层鉬膜,沉积开始。
    传感器採集,数据回传,算法修正。第二层硅膜,沉积,採集,修正。
    一层鉬,一层硅,交替沉积。
    euv反射镜面需要四十对鉬硅多层膜——八十层,每层厚度不到七纳米。
    八月十號,下午三点,八十层镀完。
    小周从无尘室里出来,手里端著一块圆形基片,直径十五厘米,表面泛著金属光泽。
    钱院士接过来,放在检测台上。
    椭偏仪启动,雷射打在镜面上,反射,探测器接收。
    数据出来了。
    小周看著屏幕,念数:“单层膜厚度误差,零点零三五纳米。”
    钱院士没说话。
    手册要求零点零二,他们做到了零点零三五。没达標,但比原来的零点零八好了一倍多。
    “反射率呢?”
    小周切换到下一组数据:“十三点五纳米波长,反射率百分之六十二点三。”
    钱院士看著这个数字。
    手册上蔡司的指標是百分之六十七,差了不到五个点。
    但是,euv光刻机的最低工作门槛是百分之六十。
    他们过线了。
    钱院士走到角落,拿起电话。
    “红旗,光打通了。”
    张红旗在煤市街的院子里,正看著陈默送来的一份报告。
    “什么意思?”
    钱院士声音平稳:“极紫外光源,十三点五纳米,穿过反射镜面,形成了稳定光束。参数达到了euv光刻的最低发光標准。”
    张红旗把手里的报告放下。
    “钱老,您確认?”
    “仪器记录的,白纸黑字。反射率百分之六十二点三,过了百分之六十的门槛。”
    张红旗站了起来,走到院子里。槐树叶子在夜风里晃。
    “这是第一步。”
    钱院士说:“是第一步。后面还有光源系统、物镜组、工件台、掩模版,每一项都是硬骨头。但镜面这关,算是过了。”
    张红旗说:“钱老,辛苦了。数据锁好,不要外传。”
    “放心。”
    掛了电话。
    张红旗回到书房。桌上摊著麦佳佳从洛杉磯发来的一份行业报告。
    他坐下来,翻到第十四页。
    全球宽带网络用户增长曲线。
    二零零一年底,全球宽带用户五千万;二零零二年中,八千万;预计年底突破一点二亿。
    增长率,年化百分之一百四十。
    张红旗盯著这条曲线。
    他翻到下一页。中国市场,宽带用户从年初的三百万半年涨到六百万,网吧数量突破十万家。
    他合上报告,拿起笔,在笔记本上写了一行字。
    “宽带,內容,平台。”
    他划掉了“平台”两个字,又写上。
    “先做內容。”